中国が独自開発を進めるEUV(極端紫外線)リソグラフィ技術について、専門家はASMLの2004年当時の水準にとどまると分析しています。量産可能な液浸リソグラフィ装置の製造能力については依然として欧米のライバル企業に大きく遅れをとっています。