中国が独自開発を進めるEUV(極端紫外線)リソグラフィ技術について、専門家はASMLの2004年当時の水準にとどまると分析しています。量産可能な液浸リソグラフィ装置の製造能力については依然として欧米のライバル企業に大きく遅れをとっています。
中国のEUV技術はASMLの2004年時点と同等、専門家が指摘
China's EUV technology 'at a similar stage to ASML in 2004,' analyst claims — Beijing's semiconductor industry remains well behind Western rivals
編集メモ: 中国のEUVリソグラフィ技術は依然として欧米の過去水準に留まっており、半導体製造装置の覇権争いにおいて欧米企業が依然として技術的優位性を維持している状況を注視する必要があります。
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今後の注目点
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