中国の上海Aishengna社が、中国初の国産浸漬DUVリソグラフィ装置を手がけているとの情報が浮上。2038年までの7nmプロセス製造に向けた中国の半導体自給自足計画を報じる。
中国の国産チップ製造装置、2038年に7nm到達か
Shanghai Aishengna named as the maker of China's first domestic immersion DUV chipmaking tools — first viable domestic 7nm-capable scanner to be completed by 2038
編集メモ: 中国の半導体自給自足の進展は、今後の国際的な技術経済圏の動向やサプライチェーンの再編を占う重要な先行指標となります。
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