中国のPrinano社は、従来のDUVリソグラフィを使わず、ナノインプリント技術を用いて8インチのフォトニックチップウェハーを製造したと発表。コストを90%削減できるとしています。
中国スタートアップがDUV不要のフォトニックチップ製造に成功
Chinese startup claims photonic chip production without DUV lithography, says nanoimprint process cuts costs by 90% — 8-inch wafers produced without conventional optical lithography
編集メモ: ナノインプリント技術を用いたフォトニックチップの量産成功は、高価なDUV装置への依存を脱却し、製造コストを劇的に低減できる可能性を示しており、半導体業界の供給網に革新をもたらします。
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